【真空蒸镀的历史】:1857年Michael FaradayZui早提出基本原理,而后、1930年代由于油扩散式真空泵实用化、蒸镀主要用于制作镜片防反射膜。第二次世界大战时,其他的光学机器对材料的需求提高,真空蒸镀也因此快速发展。 【真空蒸镀的原理】:在真空状态下,加热蒸发容器中的靶材,使其原子或分子逸出,沉积在目标物体表面,形成固态薄膜。依蒸镀材料、基板的种类可分为:抵抗加热、电子束、高周波 诱导、雷射等加热方式。蒸镀材料有铝、亚铅、金、银、白金、镍等金属材料与可产生光学特性薄膜的材料,主要有使用SiO2、TiO2、ZrO2、MgF2 等氧化物与氟化物。蒸镀除金属外,树脂与玻璃也可以使用、近年来连纸也变成可蒸镀。 【蒸发镀膜的优缺点】: 优点:设备简单、容易操作;成膜的速率快,效率高。 缺点:薄膜的厚度均匀性不易控制,蒸发容器有污染的隐患,工艺重复性不好,附着力不高。真空镀膜设备为什么会越来越慢?北京派瑞林真空镀膜设备推荐咨询
【光谱分光不良的补救(补色)之停电】: 分光不良分为二种情况:一是全部膜系镀制完成后,经测试分光不良,此类不良主要按六节所述方法处理,一般减反膜难以补救。但对于高反膜、带通滤光膜等可以通过加层的方法补救。二是镀制中途中断(包括发现错误中断)造成的分光不良,一般都可以通过后续努力补救。后续方法正确,补救成功率比较高。 中断的原因形式之停电: 对于停电这种情况,比较好处理,只要确认前面镀的没错,程序没有用错,就可以继续原来的程序,要注意的是:如果某一层镀了一部分继续镀下去时,交接处要减少一些膜厚(根据膜料、蒸发速率决定减少多少,一般时0.2~1nm左右),如果该层剩下的膜厚不足15~20秒蒸镀时,要考虑降低蒸发速率或干脆不读,通过后续层调整膜厚解决。上海真空镀膜设备品牌真空镀膜设备厂家排名。
【溅射镀膜定义】: 定义:所谓溅射,就是这充满腔室的工艺气体在高电压的作用下,形成气体等离子体(辉光放电),其中的阳离子在电场力作用下高速向靶材冲击,阳离子和靶材进行能量交换,使靶材原子获得足够的能量从靶材表面逸出(其中逸出的还可能包含靶材离子)。这一整个的动力学过程,就叫做溅射。入射离子轰击靶面时,将其部分能量传输给表层晶格原子,引起靶材中原子的运动。有的原子获得能量后从晶格处移位,并克服了表面势垒直接发生溅射;有的不能脱离晶格的束缚,只能在原位做振动并波及周围原子,结果使靶的温度升高;而有的原子获得足够大的能量后产生一次反冲,将其临近的原子碰撞移位,反冲继续下去产生高次反冲,这一过程称为级联碰撞。级联碰撞的结果是部分原子达到表面,克服势垒逸出,这就形成了级联溅射,这就是溅射机理。当级联碰撞范围内反冲原子密度不高时,动态反冲原子彼此间的碰撞可以忽略,这就是线性级联碰撞。
【真空镀膜设备的分类】:这个问题如果在十年之前,其实是很容易回答的,就是两个大类,物理沉积设备和化学沉积设备。现在这样回答也是没错的,但现在再这样回答就没办法把事情说清楚了,所以从应用领域上可以分成以下几类:传统光学器件(镜片,滤光片)所用的镀膜设备:单腔体或多腔体蒸发式镀膜设备,溅射式镀膜设备。新材料领域的柔性设备:卷对卷柔性镀膜设备。光通讯行业:离子束溅射镀膜设备。半导体及相似工艺:化学气相沉积设备。功能膜:多弧离子镀设备,溅射设备,蒸发设备玻璃工艺:溅射式连续线其余的就得归到“工艺定制设备”这个范围里面了,例如车灯镀膜设备,太阳能的共蒸发设备,光纤镀膜设备,太阳能管设备等等真空镀膜设备真空度多少?
【真空镀膜设备之涡轮分子泵】: 涡轮分子泵:涡轮分子泵是利用高速旋转的动叶轮将动量传给气体分子,使气体产生定向流动而抽气的真空泵。主要用于高真空或超高真空,属于干泵,极限真空10&7~10&8Torr,烘烤后可到10&10Torr,抽速可从50L/S~3500L/S。分子泵是靠高速转动的涡轮转子携带气体分子而获得高真空、超高真空的一种机械真空泵。泵的转速为10000转/分到50000转/分,这种泵的抽速范围很宽,但不能直接对大气排气,需要配置前级泵。分子泵抽速与被抽气体的种类有关,如对氢的抽速比对空气的抽速大20%。 真空镀膜机详细镀膜方法。山西af真空镀膜设备厂家
真空镀膜设备使用时,需要注意哪些问题?北京派瑞林真空镀膜设备推荐咨询
【真空镀膜简介】: 真空(vacuum)是一种没有任何物质的空间状态,因为真空之中没有介质,所以像声音这种需要介质传递的能量在真空中是无法传播的。1654年当时的马德堡市zhang奥&托&格里克在今tian德国雷根斯堡进行了一项实验,从而证明了真空是存在的。现在我们所说的真空并不是指空间内没有任何物质,而是指在一个既定的空间内低于一个大气压的气体状态,我们把这种稀薄的状态称为真空。现在的真空镀膜技术是在真空中把金属、合金进行蒸发、溅射使其沉积在目标物体上。 在当今电子行业,很多的电子元器件都要使用真空镀膜工艺,虽然我国的真空镀膜技术起步较晚,但发展的十分迅速。真空镀膜已经成为电子元器件制造的一项不可或缺的技术。目前的真空镀膜技术主要分为:真空蒸镀、磁控溅射镀膜、离子镀。北京派瑞林真空镀膜设备推荐咨询